是先进的纳米加工方法，可用于半导体、生命科学等领域。它利用高强度聚焦离子束对材料来纳米加工，具有高精度、非接触式加工、可逆性和多功能性等优点，但也存在样品制备复杂、成本高和对环境要求高等局限性。

  FIB（Focused Ion Beam，聚焦离子束)是将离子源（如镓）产生的离子束经过离子枪加速，并利用电透镜聚焦成非常小尺寸（纳米级）的显微切割仪器。

  聚焦离子束切割技术（Focused Ion Beam，FIB）是一种利用高强度聚焦离子束对材料来纳米加工的方法。这种技术能定点切割试样并观测其横截面以表征截面形貌尺寸，还可以配备与元素分析（EDS）等相结合的体系来分析截面成分。此外，FIB还具有材料的剥离、沉积、注入和改性等功能。

  镜（SEM）的FIB技术，也在半导体行业中得到普遍应用。自21世纪以来，FIB-SEM技术还被应用于生命科学领域，用于观察细胞或组织内部的结构。

  聚焦离子束技术（FIB）主要使用在于半导体集成电路修改、离子注入、切割和故障分析等领域。例如，当普通IC芯片在加工时有一定的问题，就能够使用FIB迅速定点地分析缺陷产生。此外，FIB-SEM技术，即结合了扫描电镜（SEM）的FIB技术，也在半导体行业中得到普遍应用。自21世纪以来，FIB-SEM技术还被应用于生命科学领域，用于观察细胞或组织内部的结构。

  FIB技术的工作原理是利用离子源产生的离子束经过透镜系统后形成一束高度聚焦的离子束，通过加速电压将离子束加速到高速度，然后轰击样品表面，使样品表面发生物理或化学反应，以此来实现对样品的加工和分析。由于离子束具有较高的能量和较小的束斑直径，因此能实现高精度的定点切割和微小区域的分析。

  由于离子束具有较高的能量和较小的束斑直径，能轻松实现高精度的定点切割和微小区域的分析。

  聚焦离子束（FIB）技术是先进的纳米加工方法，可用于半导体、生命科学等领域。它利用高强度聚焦离子束对材料来纳米加工，具有高精度、非接触式加工、可逆性和多功能性等优点，但也存在样品制备复杂、成本高和对环境要求高等局限性。

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