聚焦离子束技术持续不断的发展 2023年后应用场景拓展带来更大市场规模

来源:www.kaiyun..com    发布时间:2024-06-10 14:09:27      阅读:1

  聚焦离子束的简称为FIB(Focused Ion beam),是将离子源(大多数FIB都用Ga,也有设备具备了He和Ne离子源)产生的离子束经过离子枪加速,聚焦后作用于样品表面的一种技术。聚焦离子束技术能应用于IC芯片电路修改、Cross-Section截面分析、FIB透射电镜样品制备与材料鉴定等场景中。聚焦离子束技术可切割小至数十亿分之一米深和宽的复杂图案,是解构和成像微型工业部件的重要工具,高精度是聚焦离子束工艺的优势,使其能够在更多场景中应用,但聚焦离子束工艺也受到了高速和高分辨率之间权衡的限制。离子束产业市场规模或将从2023年的13亿美元,增长至2028年的18亿美元,复合年增长率为7.0%。

  故障分析应用将在预测期内成为聚焦离子束市场中增长率最高的应用市场,迅速增加的原因是由于市场中慢慢的变多地使用FIB技术对设备的组件或设备本身进行故障分析,以识别制作的完整过程中故障的原因。制造商使用FIB系统来测试和分析不同组件或设备的性能,推动了电子与半导体行业对聚焦离子束工艺的需求增加。

  2022年,电子与半导体垂直领域占据了聚焦离子束需求市场的大量份额,用于电子与半导体垂直领域的FIB系统制造商推出的产品在推动这些市场对聚焦离子束工艺的需求量开始上涨。诸如2021年,Thermo Fisher Scientific Inc.推出了Helios 5 EXL Wafer DualBeam,旨在满足半导体制造商在扩大业务规模时持续不断的增加的样品量和分析需求。

  在预测期内,亚太地区的聚焦离子束市场预计将以最高复合年增长率增长。来自亚太地区技术新兴国家和发达国家(如中国、印度和日本)的政府举措和投资持续不断的增加,正在影响亚太地区FIB系统的部署,推动亚太地区聚焦离子束市场的发展。

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